某半导制造厂商家因晶圆冲洗生产工序会产生含氨废水操作方法，出水量200吨/天。废水操作方法中除挥发酚外还包含的氟化物和微量分析天价属，操作困难大。各地产生标标准要求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理工艺组分及起源 晶圆进行维护清洁污水（通常因素）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工序废气：含微量分析铜、镍等巨资属，pH值价格波动大 CMP考虑化工废水：含硅科粒及化学需氧量 整理工艺设备步奏 使用"电学奠定+膜拆分+折点氯化"组合公式的工艺： 预加工处理 ：加药CaCl2除氟，操纵pH在7.5-8. 反渗透膜操作系统 ：弄掉0.01μm大于顆粒物 反进行渗透高浓 ：将氧化还原电位浸提至1000mg/L往上 折点氯化 ：正确管控氯添加量，将高锰酸盐指数生成为氦气 铁离子交流 ：安全保障巨资属达到标准 结果成效 挥发酚安全稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属含水量少于判断限 水工业废水处理率达75% 厌氧颗粒污泥制造量削减40%