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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

产品经验 该半导体设备加工制造工作处于苏北的地方,总创业超出200万美元,包括产量12厘米晶圆和专业装封物品。工作日减排废蓄水量约5000吨,其中包含三种工艺流程废液,正确治理的难度大。工作让废液正确治理后实现《电子为了满足电子时代发展的需求,工业化的水污染源物减排规格》(GB 39731-2020)特别的减排标准值,要素使用率不小于60%。 焦化废水材料及原因 含氟化工废水:常见存在晶圆蚀刻、进行维护清洁生产工艺,氟铁离子溶度高至200-500mg/L,pH值跌涨大 可挥发废渣:光刻、成像、去胶等加工过程呈现,COD酸度300-800mg/L,包含有异丙醇、二甲苯等可挥发乙酸丁酯 含铜电镀锌废水:电镀锌、普通自动化设备自动化设备镜面抛光(CMP)程序行成,铜化合物含量50-150mg/L 耐酸碱生活污水:专用设备洗滌、有机废气洗滌等流程产生了,pH值在2-12两者下降 研磨抛光生产废水:CMP道工序形成,具有刺激性纳米技术级二氧化反应硅顆粒 处里的工艺步骤 主要包括"类别持续+分质加工+厚度水净化"的结合生产工艺: 含氟化工废水工作线 : 有级催化析出:先添加氯化钙的调节pH至6-7,加上入PAC和PAM斜管沉定池析出 亲水性空气三氧化二铝吸附剂:抓好氟阴阳离子密度降下来5mg/L接下来 生活污水经板框压滤后信赖非常专业救治 有机酸废水处置方法处置线 : 微钛电极法预处置:铁碳微钛电极法生物降解大生物大分子有机化学物 UASB厌氧症状器症状器:HRT=24h,COD剔除率>60% MBR膜生物工程体现器:主要包括PVDF空芯化学纤维膜,通量15LMH 含铜生活污水补救线 : 耐腐蚀滤渣:污泥脱水NaOH调接pH至9-10,行成Cu(OH)2滤渣 阴铝离子更换:有级树脂胶更换为了保证铜阴铝离子<0.3mg/L 钛电极抛光收集并:那部分废污水经钛电极抛光收集并轻金属铜 合理补救系統 : 控制池:均衡化饮用水出水量,设爆气混合 混凝土结晶:加药复合型斜板沉淀池剂快速清理固体材料 臭氧老化催化反应钝化:可溶解难可溶解设计物 反浸入设备:脱盐率>98%,产水循环于生产的线 生活污水进行处理设备 : 飞灰果汁池:粉末状酸度从1%升级至3% 离心分离烘干:添加PAM条理,泥饼含水量率<75% 温度干化:个部分厌氧颗粒污泥干化至含水量率30%有以下 终于功效 创业项目建设成启动后,每一项原则安全稳定未达标:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜铝离子<0.3mg/L、pH 6-9。循环水水质原则可达到GB/T 19923-2005化工业用水的原则,循环率65%,次年不仅节约清新水容量约130万吨。生活污水引发量可以减少40%,快消失垃圾治理制造费减小35%。系统化自主化限度高,上线的数据监测的数据与节能相关部门乃至每一位员工实时的互联网。

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