新项目背景图片 西南某LED芯片封装工厂因利用氰化金钾电镀新工艺，带来唯一性工业废水。原始除理服务设施会有氰化物洗去不充分问題，需专顶变革。 污废水 物质显著特点 首要环境污物：氰化物（CN⁻酸度80-120mg/L） 輔助造成的污物：镍阴离子（15-25mg/L）、COD（300-500mg/L） 用水量：每日20吨，间断性排卸 治疗技术过程 按照"破氰+高价属弄掉"搭配流程： 是碱性的氯化法破氰 ： 四级破氰（pH＞10，NaClO加药系统量1.5倍学说值） 两级破氰（pH=7-8，ORP＞650mV） 巨资属操作 ： 加硫钠发展法的还原镍铁离子 斜管积累池积累（PAM助凝） 保险保障体系 ： 同屏在线氰化物监测系统仪（0-200mg/L分度值） 应急方案几丁质酶炭吸附剂提升装置 进而郊果 氰化物检测工具未查出（＜0.05mg/L） 镍阴离子质量浓度＜0.5mg/L 整体系统智能工业的程度达90%，危废处理有量减低60%